发明名称 |
光硬化性聚矽氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件;PHOTO-CURING POLYSILOXANE COMPOSITION, PROTECTING FILM AND ELEMENT CONTAINING SAID PROTECTING FILM |
摘要 |
本发明提供一本发明提供一种光硬化性聚矽氧烷组成物,包含聚矽氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),及溶剂(D);由该光硬化性聚矽氧烷组成物所形成的保护膜具有良好的感度。 |
申请公布号 |
TW201425476 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW101148690 |
申请日期 |
2012.12.20 |
申请人 |
奇美实业股份有限公司 |
发明人 |
吴明儒;施俊安 |
分类号 |
C08L83/04(2006.01);G03F7/075(2006.01);G03F7/039(2006.01) |
主分类号 |
C08L83/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>高玉骏</name><name>杨祺雄</name> |
主权项 |
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地址 |
CHI MEI CORPORATION 台南市仁德区三甲里三甲子59之1号 |