发明名称 光硬化性聚矽氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件;PHOTO-CURING POLYSILOXANE COMPOSITION, PROTECTING FILM AND ELEMENT CONTAINING SAID PROTECTING FILM
摘要 本发明提供一本发明提供一种光硬化性聚矽氧烷组成物,包含聚矽氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),及溶剂(D);由该光硬化性聚矽氧烷组成物所形成的保护膜具有良好的感度。
申请公布号 TW201425476 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW101148690 申请日期 2012.12.20
申请人 奇美实业股份有限公司 发明人 吴明儒;施俊安
分类号 C08L83/04(2006.01);G03F7/075(2006.01);G03F7/039(2006.01) 主分类号 C08L83/04(2006.01)
代理机构 代理人 <name>高玉骏</name><name>杨祺雄</name>
主权项
地址 CHI MEI CORPORATION 台南市仁德区三甲里三甲子59之1号