正型光阻材料及图案形成方法

摘要

本发明系提供一种正型光阻组成物，其特征在于：;同时包含藉由酸而提升硷溶解性的高分子化合物(A)、以及特定结构的鋶盐(B)；该高分子化合物(A)，具有感应选自于紫外线、远紫外线、电子束、X射线、准分子雷射、γ射线、以及同步辐射(synchrotron radiation)中的高能量射线而产生酸之特定结构的重复单元与酸不稳定单元。;由于本发明兼具酸扩散之抑制与溶解对比提升，且提高化学闪光(chemical flare)耐性，故可改善细微图案，特别是沟槽(trench)图案或孔(hole)图案之微影性能(形状、DOF、边缘粗糙度)。

主权项

一种正型光阻材料，其特征在于：同时包含高分子化合物(A)、以及以下述通式(2-1)或(2-2)中之任一者表示的鋶盐(B)；该高分子化合物(A)，具有感应选自于紫外线、远紫外线、电子束、X射线、准分子雷射、γ射线、以及同步辐射(synchrotron radiation)中的高能量射线而产生酸之以下述通式(1-1)或(1-2)中之任一者表示之结构的重复单元与酸不稳定单元，且硷溶解性因为酸而提升；(式中，R1表示氢原子或甲基；R2表示氢原子或三氟甲基；该式(1-1)中，R3、R4及R5各别独立地表示取代或无取代之碳数1~10之直链状、分支状或环状的烷基、烯基或是侧氧烷基(oxoalkyl)、或是取代或无取代之碳数6~18的芳基、芳烷基或芳基侧氧烷基(aryloxoalkyl)；R3、R4及R5中之任两个，亦可相互键结，并与式中的硫原子一起形成环；该式(1-2)中，R6及R7各别独立地表示取代或无取代之碳数6~18的芳基)[化2](式中，R8表示氢原子或三氟甲基；R9表示可包含杂原子之碳数4~30之直链状、分支状或环状的一价烃基；该式(2-2)中，n表示1~4的整数)。