光阻剂组成物;PHOTORESIST COMPOSITION

摘要

本发明之光阻剂组成物包括酸敏聚合物，及具有下式之环状鋶化合物：(R a )1-(Ar)-S + (-CH2-)m - O3S-(CR b 2)n-(L)p-X 其中，每一个R a 系独立为经取代或未经取代之C1-30烷基、C6-30芳基、C7-30芳烷基、或包括至少一个前述者之组合，Ar系单环、多环、或稠合多环之C6-30芳基，每一个R b 系独立为H、F、直链或分支链之C1-10氟烷基或直链或分支链之含杂原子之C1-10氟烷基，L系C1-30连结基(视需要包含杂原子，杂原子包括O、S、N、F或包括至少一个前述杂原子之组合)，X系经取代或未经取代之C5或更多碳之单环、多环或稠合多环之环脂肪族基(视需要包含杂原子，杂原子包括O、S、N、F或包括至少一个前述者之组合)，及l系0至4之整数，m系3至20之整数，n系0至4之整数，及p系0至2之整数。