发明名称 双面外露的半导体装置及其制造方法
摘要 本发明涉及一种双面外露的半导体装置及其制作方法,在导热但不导电的第二引线框架上,固定连接导电的第一引线框架;将晶片倒装,使其顶部的栅极、源极与其下方第一引线框架的若干引脚对应形成电性连接;将倒装的晶片与第一、第二引线框架模压塑封,使第二引线框架的散热片,及所述晶片底部的漏极,分别暴露在该半导体装置正反两面的塑封体以外。因而,在不增加半导体装置尺寸的前提下,通过暴露所述散热片及晶片漏极能够有效改善散热性能。
申请公布号 TWI443786 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW100121920 申请日期 2011.06.23
申请人 万国半导体开曼股份有限公司 开曼群岛 发明人 龚玉平;薛彦迅
分类号 H01L23/34 主分类号 H01L23/34
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中山区中山北路3段27号13楼
主权项 一种双面外露的半导体装置,其特征在于,该装置包含在制作时由下至上依次连接的以下部件:第二引线框架(20),其由导热但不导电的材料制成,并设置有散热片(21);第一引线框架(10),其由导电材料制成,并设置有相互分隔的若干引脚;倒装的半导体晶片(30),其设置有若干顶部电极和若干底部电极;所述晶片(30)的顶部电极向下,并对应与所述第一引线框架(10)的若干引脚电性连接;该装置中还包含,塑封体(40),其覆盖所述倒装的晶片(30),并将该晶片(30)与第一、第二引线框架模压塑封;所述第二引线框架(20)的散热片(21),及所述晶片(30)的底部电极,分别暴露在该装置正反两面的所述塑封体(40)以外。
地址 开曼群岛