发明名称 | 基板处理装置及基板处理装置之控制装置 | ||
摘要 | 本发明系一种基板处理装置,其具备:基板处理部,其对基板实施处理;及控制部,其具有记忆部、主控制部、及使用者介面部,该记忆部系记忆复数个表示处理条件之制程配方,该主控制部系基于记忆于记忆部之制程配方控制基板处理部而对基板实施特定之处理,该使用者介面部系用以存取主控制部;且控制部具备:制程配方最佳化处理器件,其算出测定出基板之处理之结果的测定资料与目标值之差,以该差变小之方式变更制程配方之处理条件之一部分而将该制程配方最佳化;及制程配方总括最佳化处理器件,其自记忆部内检索与利用制程配方最佳化器件之最佳化处理执行中之制程配方相关且可总括最佳化之制程配方,对于检索到之制程配方,与最佳化处理执行中之制程配方同样地变更处理条件之一部分。 | ||
申请公布号 | TW201426819 | 申请公布日期 | 2014.07.01 |
申请号 | TW102139624 | 申请日期 | 2013.10.31 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 大田拓市;南孝三 |
分类号 | H01L21/205(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/205(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 陈长文 | |
主权项 | |||
地址 | TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 |