发明名称 |
除水设备 |
摘要 |
一种除水设备,适用于去除液体中之水分。除水设备包含气体供应装置、吸附装置、处理装置以及第一加热装置。气体供应装置用以提供气体。吸附装置与气体供应装置相连接,且具有外壳及设于外壳内之吸附材料,以去除气体中之另一水分而形成零级乾燥气体。处理装置具有腔体、至少一管路以及气体出口。腔体系容置液体,管路系与吸附装置相连接,将零级乾燥气体导入液体中,并经由气体出口排出含有水分之另一气体。第一加热装置可用以对处理装置加热,使液体达到一温度,其中此温度系低于液体之沸点。 |
申请公布号 |
TWM481058 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW103204773 |
申请日期 |
2014.03.20 |
申请人 |
中国钢铁股份有限公司 高雄市小港区中钢路1号 |
发明人 |
欧信宏 |
分类号 |
B01D15/00 |
主分类号 |
B01D15/00 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种除水设备,适用于去除一液体中之一水分,该除水设备包含:一气体供应装置,以提供一气体;一吸附装置,与该气体供应装置相连接,其中该吸附装置具有一外壳以及设于该外壳内之一吸附材料,以去除该气体中之一另一水分而形成一零级乾燥气体;一处理装置,其中该处理装置具有一腔体、至少一管路以及一气体出口,该腔体系容置该液体,该管路系与该吸附装置相连接,将该零级乾燥气体导入该液体中,并经由该气体出口排出含有该水分之一另一气体;以及一第一加热装置,用以对该处理装置加热,使该液体达到一温度,其中该温度系低于该液体之一沸点。 |
地址 |
高雄市小港区中钢路1号 |