| 摘要 |
本发明的基板处理装置，达成产出量提升及省空间化，并可弹性地对应例如基板上氧化膜等的膜质等不同的洗净模式变更。该基板处理装置，具有：第一洗净室190，在纵方向并列配置的至少一个以上的第一洗净模组200a与两个第二洗净模组201a、201b；第二洗净室192，在纵方向配置两个第三洗净模组202a、202b；以及第一搬送自动机240，收纳于前述第一洗净室190与前述第二洗净室192之间的第一搬送室191内，在前述第一洗净模组200a、前述第二洗净模组201a、201b以及前述第三洗净模组202a、202b相互间进行基板传递。 |
