发明名称 具有介电罩盖之边缘电极
摘要 实施例提供用以移除靠近基板倾斜边缘、及腔室内部之蚀刻副产品、介电膜、及金属膜之设备及方法,以避免聚合物副产品、及沉积薄膜之累积,并改善处理产量。在一例示性实施例中,提供用以清理基板之倾斜边缘之电浆处理腔室。此电浆处理腔是包含用以容纳基板之基板支座。电浆处理腔室亦包含环绕基板支座之下边缘电极。下边缘电极及基板支座藉由下介电环彼此电性隔绝。面向基板之下边缘电极之表面系由薄的下介电层覆盖。电浆处理腔室更包含环绕面对着基板支座之上绝缘平板之上边缘电极。上边缘电极系电性接地。面向基板之上边缘电极之表面系由薄的上介电层覆盖。彼此面对之上边缘电极及下边缘电极系用以产生清理电浆,以清理基板之倾斜边缘。
申请公布号 TWI443737 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW097107517 申请日期 2008.03.04
申请人 兰姆研究公司 美国 发明人 葛瑞格里S 萨克士顿;安祖D 贝利三世;安卓斯 库提;金允圣
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 许峻荣 新竹市民族路37号10楼
主权项 一种电浆处理腔室,用以清理一基板之一倾斜边缘,该电浆处理腔室包含:一基板支座,用以容纳该基板;一下边缘电极,环绕该基板支座,该下边缘电极及该基板支座系藉由一下介电环彼此电性隔绝,面向该基板之该下边缘电极之一表面系由一薄的下介电层所覆盖;及一上边缘电极,环绕面对着该基板支座之一上绝缘平板,该上边缘电极系电性接地,该上边缘电极之面向该基板之一表面系由一薄的上介电层覆盖,该上边缘电极与该下边缘电极彼此面对,且用以产生一清理电浆以清理该基板之该倾斜边缘。
地址 美国