发明名称 光罩
摘要 一种光罩,适用于微影机台,且光罩包括基板与设置于基板上的光罩图案。光罩图案包括至少一主要图案及多个次解析辅助图案。次解析辅助图案彼此分离设置于主要图案的周围,其中各个次解析辅助图案与主要图案之间的距离为主要图案的线宽的约3倍至10倍。上述光罩可在晶圆上产生较佳的成像品质。
申请公布号 TWI443449 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW101106058 申请日期 2012.02.23
申请人 南亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 发明人 徐维成
分类号 G03F1/36 主分类号 G03F1/36
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种光罩,适用于一微影机台,且该光罩包括一基板与设置于该基板上的一光罩图案,该光罩图案包括:至少一主要图案;以及多个次解析辅助图案(sub-resolution assistant feature,SRAF),彼此分离设置于该主要图案的周围,其中各该次解析辅助图案与该主要图案之间的距离为该主要图案的线宽的3倍至10倍。
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号