基板之电浆处理装置及其方法

摘要

一种用于处理基板之装置包括脉动电源，该脉动电源产生在第一周期具有第一功率位准和在第二周期具有第二功率位准的波形。电浆源在第一周期期间产生第一电浆且在第二周期期间产生第二电浆。该第一电浆可具有比第二电浆更高的电浆密度。偏压电源在电连接至支撑基板的压板的输出处产生偏压波形。具有第一电压和第二电压的偏压波形可耦合至基板。第一电压可具有比第二电压更负的电位。

主权项

一种用于基板之电浆处理之装置，所述装置包括：处理腔室；最接近所述处理腔室之电浆源；射频功率单元，经组态以向所述电浆源输出射频波形，所述射频波形具有在多个第一周期中的每一个期间的多个第一功率脉冲和在多个第二周期中的每一个期间的多个第二功率脉冲，每一个所述第一功率脉冲具有小于每一个所述第二功率脉冲的功率位准，所述电浆源经组态以在所述多个第一周期中的每一个期间产生第一电浆且在所述多个第二周期中的每一个期间产生第二电浆；压板，用以支撑所述基板；以及偏压单元，经组态以向所述基板输出偏压波形，所述偏压波形具有多个第一电压和多个第二电压，所述多个第一电压具有比所述多个第二电压更负的电位，其中所述射频波形与所述偏压波形同步，使得在所述多个第一周期中的每一个期间所述多个第一电压中的每一者耦合至所述基板，在所述多个第二周期中的每一个期间所述多个第二电压中的每一者耦合至所述基板。