感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用该组成物的抗蚀剂膜、图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件;ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE

摘要

本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其含有藉由光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(A)，当将以全氟丁基磺酸三苯基鋶盐作为基准的情况下的相对吸光度设为εr，且将相对量子效率设为φr时，上述化合物(A)的相对吸光度εr为0.4~0.8，且εr×φr为0.5~1.0。