反射型空白罩体及其制造方法、反射型罩体之制造方法、以及半导体装置之制造方法

摘要

本发明系提供一种反射型空白罩体，系可防止于罩体制程或罩体使用时之洗净等所造成之多层反射膜的剥落。本发明之反射型空白罩体系于基板上依序形成有多层反射膜、保护膜、吸收体膜、及阻剂膜。当从基板中心至多层反射膜外周缘的距离为L(ML)、从基板中心至保护膜外周缘的距离为L(Cap)、从基板中心至吸收体膜外周缘的距离为L(Abs)、从基板中心至阻剂膜外周缘的距离为L(Res)之情况，满足L(Abs)＞L(Res)＞L(Cap)≧L(ML)，且，阻剂膜外周缘系位在基板外周缘更内侧处。