触控电极结构及其制造工艺;TOUCH ELECTRODE STRUCTURE AND METHODS FOR FORMING THE SAME

摘要

一种触控电极结构的制造工艺，包括步骤：S1：形成电极层于基板上；S2：形成第一防蚀刻光学层；S3：蚀刻电极层，位于非蚀刻区的电极层包含：复数第一电极块，相邻的第一电极块通过第一导綫电性连接；复数第二电极块，设置于第一导綫两侧；S4：形成第二防蚀刻光学层，对应于各第二电极块上的第二防蚀刻光学层形成有镂空区域；S5：蚀刻镂空区域处的第一防蚀刻光学层，形成贯穿孔；S6：形成綫路层，綫路层通过镂空区域与贯穿孔电性连接相邻的第二电极块。采用上述工艺形成的触控电极结构，具有更好的视觉效果，且制程时间短，工艺效率高。