沉积设备及使用其将沉积材料沉积于基板上之方法;DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF DEPOSITING DEPOSITION MATERAL ONTO SUBSTRATE USING THE SAME

摘要

沉积设备包含真空腔室、设置在真空腔室中的基板、设置在真空腔室中且面对基板以提供沉积材料到基板上的沉积源、产生第一雷射光束的雷射振荡器、以及连接到真空腔室的第一侧且分离第一雷射光束以产生复数个遮罩雷射光束的光学单元。遮罩雷射光束被照射到真空腔室中以设置在基板和沉积源之间。接触遮罩雷射光束的沉积材料被氧化，且通过遮罩雷射光束的沉积材料系沉积于基板上。