发明名称 基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法
摘要 本发明具备使来自光罩M之第1投影光束EL2a成像以形成中间像后将来自形成中间像之中间像面P7之第2投影光束EP2b再成像于基板P上以形成投影像之投影光学系PL、与降低从第1投影光EL2a产生而投射至基板P上之泄漏光之光量的光量降低部,投影光学系PL具有将来自光罩M之第1投影光EL21a成像后投射至中间像面P7之部分光学系61、将从部分光学系61投射之第1投影光EL2a导向中间像面P7并将来自中间像面P7之第2投影光EL2b导向部分光学系61之反射光学系62,部分光学系61使来自中间像面P2之第2投影光EL2b再成像后于基板P上形成投影像。
申请公布号 TW201426202 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW102144736 申请日期 2013.12.06
申请人 尼康股份有限公司 发明人 加藤正纪
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 阎启泰;林景郁
主权项
地址 NIKON CORPORATION 日本