| 发明名称 |
形成光微影图案之光阻剂组成物及方法 |
| 摘要 |
本发明提供有用于形成光微影图案之光阻剂组成物。本发明亦提供经该光阻剂组成物涂覆之基板及形成光微影图案之方法。该组成物、方法及涂覆基板在半导体装置的制造中找到特殊的应用性。 |
| 申请公布号 |
TWI443114 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
| 申请号 |
TW101106484 |
申请日期 |
2012.02.29 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
裵荣喆;贝尔 萝丝玛莉;卡多罗西亚 汤玛士;李承炫;刘易;朴钟根 |
| 分类号 |
C08F220/10;C08F220/28;C08F220/32;G03F7/038;G03F7/32;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F220/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
一种光阻剂组成物，包括：第一聚合物，包含下列通式(I)、(II)及(III)之单元：其中：R1代表C1至C3烷基；R2代表C1至C3伸烷基；R3代表氢或甲基；L1代表内酯基团；以及n系1或2；第二聚合物，其系(甲基)丙烯酸C3至C7烷酯均聚物或共聚物；以及光酸产生剂。 |
| 地址 |
美国 |
