| 发明名称 |
正型光阻组成物、用于正型光阻组成物之树脂、用于合成该树脂之化合物及使用该正型光阻组成物之图案形成方法 |
| 摘要 |
一种正型光阻组成物，其包含：(A)在硷性显影剂中的溶解度可在酸作用下增加的树脂，(B)能在以光化射线或辐射照射后产生酸的化合物，(C)含有氟原子及矽原子之至少一种的树脂，及(D)溶剂；及一种使用该正型光阻组成物的图案形成方法。 |
| 申请公布号 |
TWI443461 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
| 申请号 |
TW095145560 |
申请日期 |
2006.12.07 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 日本 |
发明人 |
神田博美;汉那慎一 |
| 分类号 |
G03F7/039;G03F7/004;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
| 主权项 |
一种正型光阻组成物，其包含：(A)具有单环或多环脂环烃结构的树脂，其在硷性显影剂中之溶解度可在酸作用下增加；(B)能在以光化射线或辐射照射后产生酸的化合物；(C)含有氟原子的树脂；及(D)溶剂；其中树脂(C)对酸安定且不溶于硷性显影剂，并且不包含羟基，以及以在该正型光阻组成物中的全部固体成分为准，在该正型光阻组成物中所加入的树脂(C)的量为0.1至5质量%。 |
| 地址 |
日本 |
