| 发明名称 |
曝光修正方法与控制装置;EXPOSING CORRECTION METHOD AND CONTROL APPARATUS |
| 摘要 |
一种曝光修正方法包括实行半导体制造程序于复数基板。该复数基板分为第一组与第二组。再加工实行于第二组的复数基板但不实行于第一组的复数基板。第一组与该第二组的复数基板的各自光微影制程的至少一曝光参数的一平均值被计算出来。扫描机重叠修正值与平均修正值被应用来曝光复数第二基板，这些复数第二基板没有经过再加工程序。平均修正值系根据平均值而算出。 |
| 申请公布号 |
TW201426201 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
| 申请号 |
TW102144551 |
申请日期 |
2013.12.05 |
| 申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
曾衍迪;卢欣荣;牟忠一 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪澄文;颜锦顺 |
| 主权项 |
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| 地址 |
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
