| 发明名称 |
光阻底层组成物及使用该光阻底层组成物形成图案的方法;RESIST UNDERLAYER COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE RESIST UNDERLAYER COMPOSITION |
| 摘要 |
揭露一种光阻底层组成物包含一聚合物由下列化学式1所示及一溶剂及一种使用该光阻底层组成物形成图案的方法。;在化学式1中，R 1a 至R 1d ，R 2 至R 5 是如说明书所定义。 |
| 申请公布号 |
TW201426197 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
| 申请号 |
TW102123974 |
申请日期 |
2013.07.04 |
| 申请人 |
第一毛织股份有限公司 |
发明人 |
权孝英;田桓承 |
| 分类号 |
G03F7/11(2006.01);C08F220/30(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
| 主权项 |
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| 地址 |
CHEIL INDUSTRIES INC. 南韩 |
