发明名称 |
带有自对准有源接触的基于高密度沟槽的功率MOSFET及其制备方法;HIGH DENSITY TRENCH-BASED POWER MOSFETS WITH SELF-ALIGNED ACTIVE CONTACTS AND METHOD FOR MAKING SUCH DEVICES |
摘要 |
本发明提出了一种带有自对准源极接触的高密度沟槽功率MOSFET。源极接触与第一绝缘垫片和第二绝缘垫片自对准,其中第一垫片可以抵抗选择性除去第二垫片制备材料的刻蚀工艺。另外,有源器件具有二阶闸极氧化物,其中闸极氧化物的底部厚度T2大于闸极氧化物顶部的厚度T1。 |
申请公布号 |
TW201427022 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW102145738 |
申请日期 |
2013.12.11 |
申请人 |
万国半导体股份有限公司 |
发明人 |
李亦衡;常虹;金钟五;雷 燮光;耶尔马兹 哈姆紮;博德 马督儿;卡拉夫特 丹尼尔;陈 军 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01);H01L23/60(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>叶大慧</name> |
主权项 |
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地址 |
ALPHA AND OMEGA SEMICONDUCTOR INCORPORATED 美国 |