发明名称 带有自对准有源接触的基于高密度沟槽的功率MOSFET及其制备方法;HIGH DENSITY TRENCH-BASED POWER MOSFETS WITH SELF-ALIGNED ACTIVE CONTACTS AND METHOD FOR MAKING SUCH DEVICES
摘要 本发明提出了一种带有自对准源极接触的高密度沟槽功率MOSFET。源极接触与第一绝缘垫片和第二绝缘垫片自对准,其中第一垫片可以抵抗选择性除去第二垫片制备材料的刻蚀工艺。另外,有源器件具有二阶闸极氧化物,其中闸极氧化物的底部厚度T2大于闸极氧化物顶部的厚度T1。
申请公布号 TW201427022 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW102145738 申请日期 2013.12.11
申请人 万国半导体股份有限公司 发明人 李亦衡;常虹;金钟五;雷 燮光;耶尔马兹 哈姆紮;博德 马督儿;卡拉夫特 丹尼尔;陈 军
分类号 H01L29/78(2006.01);H01L23/60(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 <name>叶大慧</name>
主权项
地址 ALPHA AND OMEGA SEMICONDUCTOR INCORPORATED 美国