发明名称 增强型氮化镓电晶体元件;ENHANCEMENT MODE GALLIUM NITRIDE BASED TRANSISTOR DEVICE
摘要 一种增强型氮化镓电晶体元件,包括磊晶堆叠层、源极层、汲极层以及p型金属氧化物层。磊晶堆叠层位于基底上。源极层与汲极层位于上述磊晶堆叠层的表面上。p型金属氧化物层位于上述源极层与上述汲极层之间。闸极层位于上述p型金属氧化物层上。上述p型金属氧化物层包括主体部与多个延伸部。主体部位于上述磊晶堆叠层的表面上。多个延伸部连接上述主体部,且延伸至上述磊晶堆叠层中。此增强型氮化镓电晶体元件可以有效抑制闸极漏电流的产生。
申请公布号 TW201427000 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW101148428 申请日期 2012.12.19
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 郭威宏;林素芳;宣融
分类号 H01L29/778(2006.01);H01L29/40(2006.01) 主分类号 H01L29/778(2006.01)
代理机构 代理人 <name>詹铭文</name><name>叶璟宗</name>
主权项
地址 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号