发明名称 |
增强型氮化镓电晶体元件;ENHANCEMENT MODE GALLIUM NITRIDE BASED TRANSISTOR DEVICE |
摘要 |
一种增强型氮化镓电晶体元件,包括磊晶堆叠层、源极层、汲极层以及p型金属氧化物层。磊晶堆叠层位于基底上。源极层与汲极层位于上述磊晶堆叠层的表面上。p型金属氧化物层位于上述源极层与上述汲极层之间。闸极层位于上述p型金属氧化物层上。上述p型金属氧化物层包括主体部与多个延伸部。主体部位于上述磊晶堆叠层的表面上。多个延伸部连接上述主体部,且延伸至上述磊晶堆叠层中。此增强型氮化镓电晶体元件可以有效抑制闸极漏电流的产生。 |
申请公布号 |
TW201427000 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW101148428 |
申请日期 |
2012.12.19 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
郭威宏;林素芳;宣融 |
分类号 |
H01L29/778(2006.01);H01L29/40(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/778(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>詹铭文</name><name>叶璟宗</name> |
主权项 |
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地址 |
INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |