发明名称 |
光学系统、包含此类型光学系统之用于微蚀刻的投影曝光装置、以及以此类型投影曝光装置制造微结构组件之方法 |
摘要 |
一种成像光学系统之一具体实施例专有地具有作为光束引导式光学组件的镜。该成像光学系统将在至少一物面中的至少一物场成像至在至少一像面中的至少一像场内。于该成像光学系统中,具有二物场,其系于空间中相互分开并与类似地于空间中相互分开的二像场相关联。如此产生具有增加的使用灵活性的一成像光学系统。 |
申请公布号 |
TWI443474 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW097140946 |
申请日期 |
2008.10.24 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限公司 德国 |
发明人 |
曼恩 汉斯 乔根 |
分类号 |
G03F7/20;G02B17/00;G03B27/42 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区 |
主权项 |
一种光学系统,组态以沿着一第一光径将一第一物场成像至一第一像场,并且组态以沿着一第二光径将一第二物场成像至一第二像场,该第一物场在空间上与该第二物场分开,该第一像场在空间上与该第二像场分开,该光学系统包含:多个光束引导组件,其中该光学系统之所有该等光束引导组件共有一单一共同光轴且该第一光径与该第二光径具有一共同瞳孔面;其中该多个光束引导组件专有地包含多个反射镜;其中,该光学系统包含一第一组件群组、一第二组件群组与一第三组件群组;以及该第一组件群组、该第二组件群组与该第三组件群组之各者组态以:(a)引导来自该第一物场与该第二物场其中之正好一个物场的多个射线;或者(b)引导来自该第一物场与该第二物场两者的多个射线;以及其中,该光学系统具有一第一瞳孔面;该第一组件群组引导仅来自该第一物场的多个射线;该第二组件群组引导仅来自该第二物场的多个射线;该第三组件群组引导来自该第一物场与该第二物场两者的多个射线;该第一组件群组与该第二组件群组是在该第一物场以及该第二物场与该第一瞳孔面之间;以及该第三组件群组是在该第一瞳孔面与该第一像场以及该第二像场之间。 |
地址 |
德国 |