发明名称 一种透明导电膜之成膜方法
摘要 本发明揭示一种透明导电膜之成膜方法,其至少包括以下步骤:提供一基板;将该基板置入一物理气相成膜装置,以进行薄膜沉积;以及形成一透明导电膜。藉由提供由一金属锌熔解氧化所得之氧化锌靶材,该方法所沉积之透明导电膜具有高穿透率与低电阻率。
申请公布号 TWI443219 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW101108829 申请日期 2012.03.15
申请人 慈阳科技工业股份有限公司 高雄市永安区永工七路3号 发明人 杨茹媛;杨宗霖;吴承学
分类号 C23C14/35;C23C14/08;H01L21/3205;H01B5/14 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人 蔡坤旺 台北市中山区长安东路2段81号3楼之1
主权项 一种透明导电膜之成膜方法,其步骤包含:(a)于一物理气相成膜装置中提供一基板;(b)提供一氧化物靶材,系置于该相对于基板之一方,以进行薄膜沉积;以及(c)形成一透明导电膜;其中,步骤(b)之该氧化物靶材之制程系包含下列步骤:(b-1)将一金属锌置于一石墨坩埚内进行1000℃以上的高温下熔解以转换为一锌蒸汽;(b-2)导入空气,将该锌蒸汽氧化成一氧化锌粉末,该氧化锌粉末之纯度系为99.0%至99.8%之间,该氧化锌粉末含有一碳元素分布,且该碳元素之重量含量系介于该氧化锌粉末之50ppm至500ppm之间;(b-3)于一冷却管收集该氧化锌粉末;(b-4)将该氧化锌粉末进行一成型步骤;以及(b-5)进行一烧结步骤,以形成一适用于物理气相沉积之氧化物靶材。
地址 高雄市永安区永工七路3号