曝光装置用光照射装置、光照射装置之控制方法、曝光装置及曝光方法

摘要

本发明提供一种可抑制光源部之照度伴随照射时间之经过而降低之曝光装置用光照射装置、光照射装置之控制方法、曝光装置及曝光方法。该曝光装置用光照射装置包括：复数个光源部73，其包含发光部71与反射光学系统72；复数个匣盒81，其由光源支撑部83支撑光源部73，以使特定数量之光源部73之光入射至积分透镜74之入射面；支撑体82，其包含安装复数个匣盒81之复数个匣盒安装部90，以使所有光源部73之光入射至积分透镜74之入射面；及光轴角度调整机构99，其可调整各光源部73之光轴角度。

主权项

一种曝光装置用光照射装置，其特征在于包括：复数个光源部，其分别包含发光部与反射光学系统，该反射光学系统使自该发光部产生之光具有指向性地射出；复数个匣盒，其包含分别支撑上述复数个光源部之中之既定数量的光源部之光源支撑部，以使上述既定数量之光源部之光入射至积分透镜之入射面；支撑体，其包含分别安装上述复数个匣盒之复数个匣盒安装部，以使定位于上述复数个匣盒的所有光源部之光入射至积分透镜之入射面；光轴角度调整机构，其可调整上述复数个光源部个别之相对于上述积分透镜之光轴角度，以修正上述复数个光源部个别之伴随照射时间之经过而产生之上述复数个光源部个别之光之扩散；照度计，其于未进行曝光之状态下，测定各光源部之各波长之照度；光学控制部，其根据上述照度计测定之结果，决定各光源部以成为点对称之方式而点亮的灯之功率及个数；及滤波器，其使用于光源部，用以设定照度分布。