发明名称 Herstellungsverfahren für einen spektroskopischen Sensor
摘要 <p>Ein Verfahren zur Herstellung eines spektroskopischen Sensors 1 umfasst einen ersten Schritt zur Ausbildung einer Hohlraumschicht 21 durch Ätzen einer Oberflächenschicht, die an einem Trägersubstrat angeordnet ist, einen zweiten Schritt zum Ausbilden einer ersten Spiegelschicht 22 an der Hohlraumschicht 21 nach dem ersten Schritt, einen dritten Schritt zum Verbinden eines Licht-durchlassenden Substrats 3 auf der ersten Spiegelschicht 22 nach dem zweiten Schritt, einen vierten Schritt zum Entfernen des Trägersubstrats von der Hohlraumschicht 21 nach dem dritten Schritt, einen fünften Schritt zum Ausbilden einer zweiten Spiegelschicht 21 an der Hohlraumschicht 21, die frei ist von dem Trägersubstrat, nach dem vierten Schritt, und einen sechsten Schritt zum Verbinden eines Licht-detektierenden Substrats 4 auf der zweiten Spiegelschicht nach dem fünften Schritt.</p>
申请公布号 DE112012004131(T5) 申请公布日期 2014.06.26
申请号 DE20121104131T 申请日期 2012.09.10
申请人 HAMAMATSU PHOTONICS K.K. 发明人 KASAHARA, TAKASHI;SHIBAYAMA, KATSUMI
分类号 H01L31/0232;G01J3/02;G01J3/26;G01J3/36;G02B5/28 主分类号 H01L31/0232
代理机构 代理人
主权项
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