发明名称 Elektrochemisches Prozessorausrichtsystem
摘要 <p>Eine Substratplattieranlage weist einen Behälter auf einer Tragstruktur und einen Kopfträger, der relativ zur Tragstruktur ortsfest fixiert ist, auf. Ein Kopf, der einen Rotor aufweist, ist am Kopfträger angebracht. Ein Stößel, der mit dem Kopfträger verbunden ist, bewegt den Kopf in und außer Eingriff mit dem Behälter. Eine Ausrichtanordnung, die am Rotor angebracht werden kann, weist mindestens einen Sensor auf, der dazu ausgelegt ist, eine Position einer Innenfläche des Behälters zu erkennen, wenn der Kopf mit dem Behälter in Eingriff ist. Der Sensor kann ein physischer Berührungssensor sein, der zum Berühren der Innenfläche des Behälters positioniert wurde.</p>
申请公布号 DE112012004188(T5) 申请公布日期 2014.06.26
申请号 DE20121104188T 申请日期 2012.08.24
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 PUCH, BRYAN
分类号 H01L21/288;H01L21/02 主分类号 H01L21/288
代理机构 代理人
主权项
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