Lokale, zu einer Gate-Struktur selbstjustierte Zwischenverbindungsstruktur

摘要

Eine übliche Schnittmaske wird eingesetzt, um ein Gate-Muster und ein lokales Zwischenverbindungsmuster derart zu definieren, dass lokale Zwischenverbindungsstrukturen und Gate-Strukturen mit einer Überlagerungsabweichung von Null relativ zueinander gebildet werden. Eine lokale Zwischenverbindungsstruktur kann in einer ersten horizontalen Richtung von einer Gate-Struktur lateral beabstandet sein und mit einer anderen Gate-Struktur in einer zweiten horizontalen Richtung in Kontakt sein, die sich von der ersten horizontalen Richtung unterscheidet. Des Weiteren kann eine Gate-Struktur so gebildet werden, dass sie kollinear mit einer lokalen Zwischenverbindungsstruktur ist, die an die Gate-Struktur angrenzt. Die lokalen Zwischenverbindungsstrukturen und die Gate-Strukturen werden mittels eines üblichen Damascene-Prozessschritts derart gebildet, dass die Oberseiten der Gate-Strukturen und der lokalen Zwischenverbindungsstrukturen koplanar zueinander sind.