| 发明名称 | 一种清洗液及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于金属化学机械抛光后的清洗液，其包含至少一种有机酸、一种氨羧络合剂以及一种羧酸类聚合物。该清洗液可用于对含有金属的晶片抛光后的表面清洗。可将抛光后残留在晶片表面的研磨颗粒及金属离子、腐蚀抑制剂去除，降低晶片表面粗糙度,改善清洗后晶片表面的亲水性，降低表面缺陷，并且可以防止金属表面的腐蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN103881848A | 申请公布日期 | 2014.06.25 |
| 申请号 | CN201210556881.6 | 申请日期 | 2012.12.19 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 蔡鑫元;荆建芬;张建;周文婷;王雨春 |
| 分类号 | C11D7/26(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I;C23G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种清洗液，其包括至少一种有机酸，氨羧络合剂，以及至少一种羧酸类聚合物和/或其盐。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||