发明名称 一种带有抛光功能的研磨盘
摘要 本发明涉及一种带有抛光功能的研磨盘,适用于光学元件、非晶薄膜衬底等工件表面的研磨与抛光加工。它包括包括底座砂轮和螺旋形挡板,所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上,所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化,越靠近螺旋形中心,底座砂轮的表面粒度越高;所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。本发明结构简单紧凑,成本较低,自动化程度高,通过螺旋形研磨盘的磨料粒度梯度化设计,可以对工件分别进行从粗磨到精抛的不同程度的加工。
申请公布号 CN103878684A 申请公布日期 2014.06.25
申请号 CN201410079959.9 申请日期 2014.03.06
申请人 浙江工业大学 发明人 金明生;计时鸣;张利;潘烨
分类号 B24B37/16(2012.01)I 主分类号 B24B37/16(2012.01)I
代理机构 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人 吴秉中
主权项 一种带有抛光功能的研磨盘,其特征在于:包括底座砂轮和螺旋形挡板,所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上,所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化,越靠近螺旋形中心,底座砂轮的表面粒度越高;所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。
地址 310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区