发明名称 | 一种带有抛光功能的研磨盘 | ||
摘要 | 本发明涉及一种带有抛光功能的研磨盘,适用于光学元件、非晶薄膜衬底等工件表面的研磨与抛光加工。它包括包括底座砂轮和螺旋形挡板,所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上,所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化,越靠近螺旋形中心,底座砂轮的表面粒度越高;所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。本发明结构简单紧凑,成本较低,自动化程度高,通过螺旋形研磨盘的磨料粒度梯度化设计,可以对工件分别进行从粗磨到精抛的不同程度的加工。 | ||
申请公布号 | CN103878684A | 申请公布日期 | 2014.06.25 |
申请号 | CN201410079959.9 | 申请日期 | 2014.03.06 |
申请人 | 浙江工业大学 | 发明人 | 金明生;计时鸣;张利;潘烨 |
分类号 | B24B37/16(2012.01)I | 主分类号 | B24B37/16(2012.01)I |
代理机构 | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人 | 吴秉中 |
主权项 | 一种带有抛光功能的研磨盘,其特征在于:包括底座砂轮和螺旋形挡板,所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上,所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化,越靠近螺旋形中心,底座砂轮的表面粒度越高;所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。 | ||
地址 | 310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区 |