发明名称 一种多晶硅片绒面的制备方法
摘要 本发明公开了一种多晶硅片绒面的制备方法,包括如下步骤:(1)将待处理的多晶硅片放入第一制绒槽进行第一次制绒;制绒混合溶液处于循环状态;(2)将待处理的多晶硅片放入第二制绒槽进行第二次制绒;制绒混合溶液处于循环状态和鼓泡状态;(3)将待处理的多晶硅片放入第三制绒槽进行第三次制绒;制绒混合溶液处于循环状态和鼓泡状态。经产线实验证实:15万片硅片经本发明的方法制绒后,只有80片产生了水纹印,相较于以往技术在去除水纹印方面有了显著提高;另外,采用本发明的方法制绒后,硅片表面的花篮印几乎不存在;由此可见,本发明极大地改善了电池片的外观,解决了本领域亟待解决的技术难题。
申请公布号 CN103882528A 申请公布日期 2014.06.25
申请号 CN201410123902.4 申请日期 2014.03.28
申请人 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 发明人 孟祥熙;章灵军;王栩生;姜小松;周军;许涛
分类号 C30B33/10(2006.01)I;C23F1/24(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 C30B33/10(2006.01)I
代理机构 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 代理人 王华
主权项 一种多晶硅片绒面的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1) 将待处理的多晶硅片放入第一制绒槽进行第一次制绒;所述第一制绒槽中的制绒混合溶液的组分,按质量计,包括:0.5%~1.5%的 CrO<sub>3</sub>、40%~50%的HF水溶液、0.004%~0.03%的聚乙二醇、0.01%~0.03%的聚丙烯酰胺、0.04%~0.15%的丙烯酸,余量为水;所述HF水溶液中含有质量百分比为49%的HF;腐蚀温度为10~30℃,腐蚀时间为250~350秒;制绒混合溶液处于循环状态;(2) 将待处理的多晶硅片放入第二制绒槽进行第二次制绒;所述第二制绒槽中的制绒混合溶液的组分,按质量计,包括:0.3%~1%的 CrO<sub>3</sub>、45%~60%的HF水溶液、0.004%~0.03%的聚乙二醇、0.01%~0.03%的聚丙烯酰胺、0.04%~0.15%的丙烯酸,余量为水;所述HF水溶液中含有质量百分比为49%的HF;腐蚀温度为15~25℃,腐蚀时间为230~270秒;制绒混合溶液处于循环状态和鼓泡状态;(3) 将待处理的多晶硅片放入第三制绒槽进行第三次制绒;所述第三制绒槽中的制绒混合溶液的组分,按质量计,包括:0.3%~1%的 CrO<sub>3</sub>、45%~60%的HF水溶液、0.004%~0.03%的聚乙二醇、0.01%~0.03%的聚丙烯酰胺、0.04%~0.15%的丙烯酸,余量为水;所述HF水溶液中含有质量百分比为49%的HF;腐蚀温度为15~25℃,腐蚀时间为230~270秒;制绒混合溶液处于循环状态和鼓泡状态。
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