发明名称 |
一种提高氧化物薄膜抗激光损伤阈值的蒸镀方法 |
摘要 |
本发明属于薄膜光学领域,具体涉及一种提高氧化物薄膜抗激光损伤阈值的蒸镀方法。主要针对抗激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——薄膜中的吸收及缺陷。通过在蒸发源与基板之间添加隔离挡板,阻挡并吸附无效的蒸发材料,减少了基板附近的污染,降低了薄膜缺陷形成的几率;在真空室导入氧化能力比普通分子态氧气和离子氧更强的氧自由基,使氧自由基气体略入射基板表面,使得沉积材料在高真空条件下充分氧化成为了可能,降低了薄膜的吸收,从而得到阈值更高的氧化物薄膜。此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度;具有针对性强、品质高、简单易行的特点。 |
申请公布号 |
CN103882385A |
申请公布日期 |
2014.06.25 |
申请号 |
CN201410050340.5 |
申请日期 |
2014.02.13 |
申请人 |
同济大学 |
发明人 |
王占山;程鑫彬;焦宏飞;鲍刚华;宋智 |
分类号 |
C23C14/30(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/30(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种提高氧化物薄膜抗激光损伤阈值的蒸镀方法,其特征在于该方法包含以下步骤:(1)将基板清洗干净,然后利用高纯氮气吹干后放入镀膜机内;(2)控制镀膜机内真空室的本底真空度为1×10‑4Pa,将基板加热至200‑300度,并恒温80‑120分钟;(3)用电子束蒸发膜料,通过挡板控制控制蒸发角度,使膜料仅沉积在基板范围内。(4)在蒸发膜料的同时,向真空室内导入氧自由基作为反应气体;(5)镀膜结束后,待真空室冷却至室温后取出镀制好的样品。 |
地址 |
200092 上海市四平路1239号 |