反应腔室和磁控溅射设备

摘要

本发明公开了一种反应腔室和磁控溅射设备，该反应腔室包括腔体，腔体内平行设置有若干个竖直放置的靶材，相邻靶材之间设置有进气管道，进气管道的一端设置有第一进气口，进气管道的管道壁上设置有若干个出气孔，溅射气体从第一进气口通入进气管道并通过出气孔进入到腔体内，本发明的技术方案通过在相邻靶材之间设置进气管道，且在进气管道的管道壁上设置若干个出气孔，从而使得溅射气体能较快的充满整个腔体，而且通过上述通气方式可有效保证腔体内溅射气体浓度的均匀，从而使得镀膜的均一性得到提高，同时，出气孔外的气流还能有效的对靶材进行散热，可有效避免靶材产生部分脱落的现象。

主权项

一种反应腔室，其特征在于，包括：腔体，所述腔体内平行设置有若干个竖直放置的靶材，相邻所述靶材之间设置有进气管道，所述进气管道的一端设置有第一进气口，所述进气管道的管道壁上设置有若干个出气孔，溅射气体从所述第一进气口通入至所述进气管道内，并通过所述出气孔进入到所述腔体内。