检测晶片的系统和方法

摘要

一种用于晶片检测的方法和系统。系统包括光学检测头、晶片工作台、晶片堆栈、XY工作台和振动隔离器。光学检测头包括一些照明器、图像采集装置、物镜和其他光学元件。本系统和方法能够采集明场图像、暗场图像、3D图像和复查图像。采集的图像被转换为图像信号并传输至可编程的控制器中进行处理。检测在晶片移动的过程中进行。将采集的图像与参考图进行比较来发现晶片上的缺陷。本发明提供了一种用于生成优选参考图像的过程方法和一种优选的图片检测的过程方法。参考图的生成过程是自动进行的。

主权项

一种当晶片沿着扫描运动路径移动时采集图像的方法，其特征在于，包括：（a）采集第一对比照明下的晶片的第一图像；（b）在采集完第一图像之后立即采集第二对比照明下的晶片的第二图像，所述的第一对比照明和所述的第二对比照明都具有宽频波长，所述的第一对比照明和所述的第二对比照明用于发现所述的第一图像和所述的第二图像上至少一个缺陷，采集所述的第一图像的位置与采集所述的第二图像的位置之间有一段预设的距离，半导体晶片被放置在这个位置上；（c）将晶片的第一图像转化为第一图像信号并且在采集第二图像过程中开始将第一图像信号传送至数据库或存储记忆系统中；（d）将晶片的第二图像转化为第二图像信号并且开始将第二图像信号传送至数据库或存储记忆系统中；（e）在立即完成将第一图像信号传送至数据库或存储记忆系统之后，并且在将第二图像信号传送至数据库或存储记忆系统过程中，跳转至步骤（a）以重复步骤（a）并贯穿步骤（d），采用与采集晶片的第一图像相应的方法采集第一对比照明下的晶片的第三图像，并且在此之后立即采用与采集晶片的第二图像相应的方法采集第二对比照明下的晶片的第四图像；关联所述的第一图像和所述的第二图像；和将所述的第一图像上的至少一个缺陷位置与所述的第二图像上的至少一个缺陷位置进行对比来提供缺陷检测结果，其中第一对比照明和第二对比照明中的至少一个包括明场照明。