| 发明名称 |
光阻下层膜材料及使用此材料之图案形成方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI442187 |
申请公布日期 |
2014.06.21 |
| 申请号 |
TW100140895 |
申请日期 |
2011.11.09 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
荻原勤;郡大佑;美谷岛佑介;渡边武;藤井俊彦;金生刚 |
| 分类号 |
G03F7/11;C08G8/10;C08G61/00;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/11 |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
