磁控溅镀用靶及其制造方法,申请号TW100127745-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	磁控溅镀用靶及其制造方法
摘要
申请公布号	TWI441936	申请公布日期	2014.06.21
申请号	TW100127745	申请日期	2011.08.04
申请人	田中贵金属工业股份有限公司日本	发明人	宫下敬史;后藤康之
分类号	C23C14/35	主分类号	C23C14/35
代理机构		代理人	林志刚台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址	日本

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