光阻底层膜用组成物及双镶嵌结构之形成方法,申请号TW097111054-传众专利搜索

发明名称	光阻底层膜用组成物及双镶嵌结构之形成方法
摘要
申请公布号	TWI442186	申请公布日期	2014.06.21
申请号	TW097111054	申请日期	2008.03.27
申请人	ＪＳＲ股份有限公司日本	发明人	能村仲笃;夏目纪浩;今野洋助
分类号	G03F7/09	主分类号	G03F7/09
代理机构		代理人	林志刚台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址	日本