发明名称 一种陡峭坡面植绿结构
摘要 本实用新型的目的在于公开一种陡峭坡面植绿结构,它包括竖直设置在陡峭坡面上的埋头沟槽,所述埋头沟槽中设置有植物纤维毯层,所述植物纤维毯层的头部延伸在所述埋头沟槽的底部,所述植物纤维毯层的尾部延伸在所述埋头沟槽的外侧,所述植物纤维毯层的头部上方设置有土壤层;与现有技术相比,采用植物纤维毯植绿技术,成功完成了陡峭坡面植绿工作,并有效控制水土流失及滑坡的可能,同时提高了植物的成活率及分布均匀度,实现本实用新型的目的。
申请公布号 CN203646126U 申请公布日期 2014.06.18
申请号 CN201320758111.X 申请日期 2013.11.27
申请人 上海园林绿化建设有限公司 发明人 施年忠;曹世伟;顾燕飞;陈江华
分类号 A01G1/00(2006.01)I;E02D17/20(2006.01)I 主分类号 A01G1/00(2006.01)I
代理机构 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人 冯子玲
主权项 一种陡峭坡面植绿结构,其特征在于,它包括竖直设置在陡峭坡面上的埋头沟槽,所述埋头沟槽中设置有植物纤维毯层,所述植物纤维毯层的头部延伸在所述埋头沟槽的底部,所述植物纤维毯层的尾部延伸在所述埋头沟槽的外侧,所述植物纤维毯层的头部上方设置有土壤层。
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