薄膜晶体管液晶显示器、阵列基板及其制造方法

摘要

本发明提供一种薄膜晶体管液晶显示器、阵列基板及其制造方法，制造方法包括：步骤1、在基板上沉积栅金属薄膜，通过第一次构图工艺形成栅线和栅电极的图形；步骤2、在完成步骤1的基板上依次沉积栅绝缘层和半导体层，通过第二次构图工艺形成半导体层的图形，半导体层上的沟道区域保留光刻胶；步骤3、在完成步骤2的基板上依次沉积欧姆接触层、透明导电层和源漏层，剥离掉半导体层上保留的光刻胶，形成沟道区域的图形；步骤4、在完成步骤3的基板上沉积钝化层，通过第三次构图工艺形成欧姆接触层、像素电极、源电极、漏电极、数据线和钝化层的图形。本发明采用三次构图工艺实现阵列基板的制造，能够缩短生产时间，提高生产效率，降低生产成本。

主权项

一种薄膜晶体管液晶显示器阵列基板的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、在基板上沉积栅金属薄膜，通过第一次构图工艺形成栅线和栅电极的图形；步骤2、在完成步骤1的基板上依次沉积栅绝缘层和半导体层，通过第二次构图工艺形成半导体层的图形，且半导体层上的沟道区域保留有光刻胶；步骤3、在完成步骤2的基板上依次沉积欧姆接触层、透明导电层和源漏层，剥离掉半导体层上保留的光刻胶，形成沟道区域的图形；步骤4、在完成步骤3的基板上沉积钝化层，通过第三次构图工艺形成欧姆接触层、像素电极、源电极、漏电极、数据线和钝化层的图形。