用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具

摘要

一种研磨工具包括一个CMP垫修整器，该修整器具有一个基底，该基底包括一个第一主表面、与该第一主表面相反的一个第二主表面、以及在该第一主表面和第二主表面之间延伸的一个侧表面，其中一个第一磨料颗粒层附接到该第一主表面上，并且一个第二磨料颗粒层附接到该第二主表面上。该修整器进一步包括一个第一密封构件，该密封构件沿着该基底的侧表面的一部分在一个周边方向上延伸。

主权项

一种用作CMP垫修整器的研磨工具，包括：一个板；以及一个磨料物品，该磨料物品包括：一个基底，该基底具有一个第一主表面、与该第一主表面相反的一个第二主表面以及具有凹陷的联接表面，其被配置为与该板互补联接；一个附接到该第一主表面上的第一单一磨料颗粒层；一个附接到该第二主表面上的第二单一磨料颗粒层；并且其中该板和磨料物品是通过一个联接机构而可拆卸地联接的，其被配置为用于该磨料物品的可反转操作，其中该第一单一磨料颗粒层及该第二单一磨料颗粒层与该板间隔开。