对准图形及晶圆

摘要

本发明揭示了一种对准图形，用于在测量机台上对准晶圆，所述晶圆包括多个阵列的投影曝光区域，相邻的所述投影曝光区域通过切割道相隔离，所述对准图形位于所述投影曝光区域边侧的所述切割道内。本发明还提供包括所述对准图形的晶圆。在本发明的对准图形中，所述投影曝光区域边侧的所述切割道内没有其他干扰图形，并且位于所述切割道与所述对准图形之间的对比度高，在测量机台的光学显微镜下，所述对准图形与背景颜色黑白分明，可以精确定位晶圆的位置，提高量测效率。

主权项

一种对准图形，其特征在于，用于在测量机台上对准晶圆，所述晶圆包括多个阵列的投影曝光区域，相邻的所述投影曝光区域通过切割道相隔离，所述对准图形位于所述投影曝光区域边侧的所述切割道内。