发明名称 PECVD镀膜装置的电极结构
摘要 本实用新型提供了一种PECVD镀膜装置的电极结构。该PECVD镀膜装置的电极结构包括:第一电极对,第一电极对包括相对设置的第一电极辊和第二电极辊,第一电极辊内设置有第一内磁路,第二电极辊内设置有第二内磁路;第二电极对,第二电极对的两个电极的中心连线与第一电极辊和第二电极辊的中心连线相互垂直并对称布置。本实用新型所提供的PECVD镀膜装置的电极结构,能够降低放电电压,较大程度避免误放电,降低能源消耗并提升膜面质量。
申请公布号 CN203653694U 申请公布日期 2014.06.18
申请号 CN201320858578.1 申请日期 2013.12.24
申请人 北京北印东源新材料科技有限公司 发明人 吕旭东;陈立国;李海燕;张受业;陈伟岸;贺艳;赵萌;朱惠钦
分类号 C23C16/50(2006.01)I 主分类号 C23C16/50(2006.01)I
代理机构 北京庆峰财智知识产权代理事务所(普通合伙) 11417 代理人 刘元霞
主权项 一种PECVD镀膜装置的电极结构,其特征在于,包括:第一电极对,所述第一电极对包括相对设置的第一电极辊和第二电极辊,所述第一电极辊内设置有第一内磁路,所述第二电极辊内设置有第二内磁路;第二电极对,所述第二电极对的两个电极的中心连线与所述第一电极辊和第二电极辊的中心连线相互垂直并对称布置。
地址 101407 北京市怀柔区雁栖经济开发区雁栖东二路8号1幢1号