制造光纤预制品用的中空玻璃衬底管的内表面的活化方法

摘要

本发明涉及一种制造光纤预制品用的中空玻璃衬底管的内表面的活化方法，所述方法包括以下步骤：i）通过PCVD工艺在中空衬底管的内表面上沉积多个活化玻璃层，其中活化玻璃层的厚度为至少10微米且至多250微米；和ii）通过蚀刻工艺至少部分地除去步骤i）中沉积的活化层，其中步骤i）中沉积的活化玻璃层被除去到至少30%的程度。本方法通过对PCVD沉积层进行蚀刻步骤，而不是对初始衬底管自身进行蚀刻步骤，蚀刻工艺的优点-例如改善的粘附性-得以保持，而蚀刻的副作用-产生表面非均质性-减少乃至完全消除。

主权项

一种制造光纤预制品用的中空玻璃衬底管的内表面的活化方法，所述方法包括以下步骤：i）通过PCVD工艺，将多个活化玻璃层沉积在所述中空衬底管的所述内表面上；其中所述活化玻璃层的厚度为至少10微米且至多250微米；ii）通过蚀刻工艺至少部分地除去在步骤i）中沉积的活化层，其中在步骤i）中沉积的活化玻璃层被除去到至少30%的程度。