发明名称 | 光学成像写入系统 | ||
摘要 | 本发明公开了一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。公开了一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的方法。在一种实施例中,该方法包括提供一平行成像写入系统,其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元,且该SLM成像单元排列成一或多个平行阵列;接收一待写入该基板的光掩膜数据图案;处理该光掩膜数据图案,以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案;指派一或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光掩膜数据图案;控制该复数个SLM成像单元,以将该复数个分区光掩膜数据图案平行写入该基板;控制该复数个SLM成像单元的移动,使其涵盖该基板的不同区域;及控制该SLM成像单元的移动,使其与该复数个分区光掩膜数据图案的连续写入作业同步。 | ||
申请公布号 | CN102362223B | 申请公布日期 | 2014.06.18 |
申请号 | CN201080012879.1 | 申请日期 | 2010.03.16 |
申请人 | 派因布鲁克成像系统公司 | 发明人 | 陈正方;T·莱迪格 |
分类号 | G03B27/42(2006.01)I | 主分类号 | G03B27/42(2006.01)I |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 酆迅;郑菊 |
主权项 | 一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的方法,包含下列步骤:提供一平行成像写入系统,其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元,且该SLM成像单元排列成一或多个平行阵列,其中各该复数个SLM成像单元包含一或多个照明光源、一或多个定线光源、一或多个投影透镜及复数个微镜,该微镜用于将该一或多个照明光源的光投射至相对应的该一或多个投影透镜,并且其中该复数个照明光源包括配置成将掩膜数据图案写入基板的复数个光化照明光源以及配置成调整该复数个SLM成像单元中的SLM成像单元对基板的区域的焦点的非光化照明光源,其中该非光化照明光源位于该复数个照明光源的中心处;接收待写入该基板的该光掩膜数据图案;处理该光掩膜数据图案,以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案;指派一或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光掩膜数据图案;控制该复数个SLM成像单元,以将该复数个分区光掩膜数据图案平行写入该基板;控制该复数个SLM成像单元的移动,使其涵盖该基板的不同区域;及控制该SLM成像单元的移动,使其与该复数个分区光掩膜数据图案的连续写入作业同步。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |