发明名称 一种脱胶前单晶硅片的清洗装置
摘要 本实用新型提供了一种脱胶前单晶硅片的清洗装置,包括盛水槽、清洗支架和两根清洗水管,所述的清洗支架固定在盛水槽内,所述的清洗支架为长方体形,所述两根清洗水管分别设置在清洗支架的左右两侧,每根所述的清洗水管连接有一个水阀,所述水阀用于与供水管连接,每根所述的清洗水管相对于另一根清洗水管一侧的管壁上等距设置有多个出水孔。本实用新型实现对单晶硅片的自动,均匀地清洗,解决现有单晶硅片清洗效果差的问题。
申请公布号 CN203648897U 申请公布日期 2014.06.18
申请号 CN201320723382.1 申请日期 2013.11.13
申请人 龙岩市华德光电有限公司 发明人 陈吉祥;李竞宇;张建国
分类号 B08B3/02(2006.01)I 主分类号 B08B3/02(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种脱胶前单晶硅片的清洗装置,其特征在于:包括盛水槽、清洗支架和两根清洗水管,所述的清洗支架固定在盛水槽内,所述的清洗支架为长方体形,所述两根清洗水管分别设置在清洗支架的左右两侧,每根所述的清洗水管连接有一个水阀,所述水阀用于与供水管连接,每根所述的清洗水管相对于另一根清洗水管一侧的管壁上等距设置有多个出水孔。
地址 364101 福建省龙岩市永定县工业园区德泓光电产业园区A1栋
您可能感兴趣的专利