发明名称 | 形成发光装置的制造方法及其所制成的发光装置 | ||
摘要 | 本发明公开一种形成发光装置的制造方法及其所制成的发光装置。该制造方法包含:提供一基板;形成一发光结构于基板上,发光结构具有一活性层;形成一保护层于发光结构上,保护层具有一第一厚度;蚀刻保护层使保护层具有一第二厚度小于第一厚度;以及图案化保护层。 | ||
申请公布号 | CN103872206A | 申请公布日期 | 2014.06.18 |
申请号 | CN201210545472.6 | 申请日期 | 2012.12.14 |
申请人 | 晶元光电股份有限公司 | 发明人 | 吴佳裕;苏庆章;曾俊龙;沈庆兴 |
分类号 | H01L33/44(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I | 主分类号 | H01L33/44(2010.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈小雯 |
主权项 | 一种形成发光装置的制造方法,包含:提供一基板;形成一发光结构于该基板上,该发光结构具有一活性层;形成一保护层于该发光结构上,该保护层具有一第一厚度;蚀刻该保护层使该保护层具有一第二厚度小于该第一厚度;以及图案化该保护层。 | ||
地址 | 中国台湾新竹市 |