| 发明名称 | 设计随机图案的方法和装置及包括该随机图案的光学基板 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种设计随机图案的方法、用于设计随机图案的装置以及包括根据所述设计随机图案的方法设计的随机图案的光学基板。所述方法包括：在图案设计区中设置多个单元有效图案区；在所述单元有效图案区中形成随机点坐标；并且将所述单元有效图案区中的随机点坐标连接到在第一或第二方向上与所述随机点坐标相邻的其他随机点坐标。 | ||
| 申请公布号 | CN103870058A | 申请公布日期 | 2014.06.18 |
| 申请号 | CN201310693802.0 | 申请日期 | 2013.12.17 |
| 申请人 | LG伊诺特有限公司 | 发明人 | 张佑荣;李承宪;全致九 |
| 分类号 | G06F3/041(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I | 主分类号 | G06F3/041(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 许向彤;陈英俊 |
| 主权项 | 一种设计随机图案的方法，所述方法包括：在图案设计区中设置多个单元有效图案区；在所述单元有效图案区中形成随机点坐标；并且将所述单元有效图案区中的所述随机点坐标连接到在第一方向或第二方向上与所述随机点坐标相邻的其他随机点坐标。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||