发明名称 |
在垂直磁记录介质上的软磁性薄膜层中使用的合金,溅射靶材,以及具有软磁性薄膜层的垂直磁记录介质 |
摘要 |
本发明提供了一种用于垂直磁记录介质的软磁性合金,相对于室温的饱和磁通密度,其在高温具有高饱和磁通密度。该合金包含按原子%计的:一种或多种具有57至71的原子数的镧系元素;Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta和B中的一种或两种以上,或/和C、Al、Si、P、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Mo、Sn和W中的一种或两种以上;以及余量的Co、Fe,以及不可避免的杂质;并且满足以下表达式的全部:(1)0.5≤TLA≤15;(2)5≤TLA+TAM;和(3)TLA+TAM+TNM≤30(其中TLA是所述一种或多种具有57至71的原子数的镧系元素的加入量的总百分数;TAM等于Y+Ti+Zr+Hf+V+Nb+Ta+B/2的加入量的总百分数,其中,仅对于B,使用其1/2的值;并且TNM等于C+Al+Si+P+Cr+Mn+Ni+Cu+Zn+Ga+Ge+Mo+Sn+W的加入量的总百分数)。 |
申请公布号 |
CN103875035A |
申请公布日期 |
2014.06.18 |
申请号 |
CN201280046629.9 |
申请日期 |
2012.09.20 |
申请人 |
山阳特殊制钢株式会社 |
发明人 |
泽田俊之;松原庆明 |
分类号 |
G11B5/738(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/738(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王旭 |
主权项 |
一种在垂直磁记录介质中的软磁性薄膜层中使用的合金,其中所述合金包含按原子%计的:一种或多种具有57至71的原子数的镧系元素;Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta和B中的一种或两种以上,或/和C、Al、Si、P、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Mo、Sn和W中的一种或两种以上;和余量的Co、Fe,以及不可避免的杂质;并且满足以下表达式(1)至(3)的全部:(1)0.5≤TLA≤15;(2)5≤TLA+TAM;和(3)TLA+TAM+TNM≤30(其中TLA是所述一种或多种具有57至71的原子数的镧系元素的加入量的总百分数;TAM等于Y+Ti+Zr+Hf+V+Nb+Ta+B/2的加入量的总百分数,其中,仅对于B使用其1/2的值;并且TNM等于C+Al+Si+P+Cr+Mn+Ni+Cu+Zn+Ga+Ge+Mo+Sn+W的加入量的总百分数)。 |
地址 |
日本兵库县 |