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Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaerzeugungsvorrichtung umfassend–eine Plasmaquelle mit Plamaquellenhohlkörper (1) und Elektronenemissionseinheit (5) welche es ermöglicht freie Elektronen in den Plasmaquellenhohlkörper zu emittieren wobei der Plasmaquellenhohlkörper (1) einen ersten Gaseinlass (7a) und eine Plasmaquellenöffnung (10) aufweist, welche eine Öffnung zu einer Vakuumkammer bildet–sowie eine Anode mit Anodenhohlkörper (2), wobei der Anodenhohlkörper (2) einen zweiten Gaseinlass (7b) und eine Anodenöffnung (11) aufweist welche eine Öffnung zu der Vakuumkammer bildet–und eine Spannungsquelle (8) deren negativer Pol mit der Elektronenemissionseinheit (5) verbunden ist und deren positiver Pol mit dem Anodenhohlkörper (2) verbunden ist, wobei der positive Pol der Spannungsquelle (8) zusätzlich über einen ersten Nebenwiderstand (6a) mit dem Plasmaquellenhohlkörper elektrisch verbunden ist. |
