| 发明名称 | 针对通孔的光学临近修正方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种针对通孔的光学临近修正方法，包括：在对通孔执行光学临近修正之前，判断特定通孔分别与其四个侧边处的四个相邻通孔的电位关系，所述电位关系包括同电位关系和非同电位关系；对于所述特定通孔与所述特定通孔侧边处的相邻通孔处于同电位关系，使得特定通孔相应的侧边增加一个同电位补值；对于所述特定通孔与所述特定通孔侧边处的相邻通孔处于非同电位关系，使得特定通孔相应的侧边增加一个非同电位补值；对经过特殊处理的通孔执行光学临近修正。 | ||
| 申请公布号 | CN103869599A | 申请公布日期 | 2014.06.18 |
| 申请号 | CN201410110058.1 | 申请日期 | 2014.03.24 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 王丹;于世瑞;张瑜;毛智彪 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01)I;H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 王宏婧 |
| 主权项 | 一种针对通孔的光学临近修正方法，其特征在于包括：在对通孔执行光学临近修正之前，判断特定通孔分别与其四个侧边处的四个相邻通孔的电位关系，所述电位关系包括同电位关系和非同电位关系；对于所述特定通孔与所述特定通孔侧边处的相邻通孔处于同电位关系，使得特定通孔相应的侧边增加一个同电位补值；对于所述特定通孔与所述特定通孔侧边处的相邻通孔处于非同电位关系，使得特定通孔相应的侧边增加一个非同电位补值；对经过特殊处理的通孔执行光学临近修正。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 | ||