发明名称 |
LED芯片及具有该结构的阵列式LED芯片 |
摘要 |
本实用新型提供了一种LED芯片及具有该结构的阵列式LED芯片。LED芯片包括:衬底、形成于衬底的顶面上的N型GaN层、形成于N型GaN层的顶面上的多量子阱层、形成于多量子阱层的顶面上的P型GaN层;N型GaN层包括第一凹槽和第二凹槽;第一凹槽包括N型电极;第二凹槽包括绝缘隔离层、透明导电层、P型电极;绝缘隔离层延伸至P型GaN层的顶面上;透明导电层延伸至绝缘隔离层外缘与P型GaN层顶面外缘之间。阵列式LED芯片,包括衬底和形成于衬底的顶面上的多个单元,多个单元结构相同,单元结构为上述LED芯片结构。 |
申请公布号 |
CN203659931U |
申请公布日期 |
2014.06.18 |
申请号 |
CN201320659503.0 |
申请日期 |
2013.10.24 |
申请人 |
湘能华磊光电股份有限公司 |
发明人 |
田艳红;汪延明;付宏威 |
分类号 |
H01L33/62(2010.01)I;H01L33/02(2010.01)I;H01L33/36(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/62(2010.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 |
代理人 |
吴贵明 |
主权项 |
一种LED芯片,包括:衬底(1)、形成于所述衬底(1)的顶面上的N型GaN层(2)、形成于所述N型GaN层(2)的顶面上的多量子阱层(3)、形成于所述多量子阱层(3)的顶面上的P型GaN层(4);其特征在于,所述N型GaN层(2)包括形成于所述N型GaN层(2)顶面上位置相间的第一凹槽(21)和第二凹槽(22);所述第一凹槽(21)包括N型电极(8),所述N型电极(8)形成于所述第一凹槽(21)的顶面上;所述第二凹槽(22)包括绝缘隔离层(5)、透明导电层(6)、P型电极(7),所述绝缘隔离层(5)形成于所述第二凹槽(22)的槽底顶面上,所述透明导电层(6)形成于所述绝缘隔离层(5)上,所述P型电极(7)形成于所述透明导电层(6)的顶面上;所述绝缘隔离层(5)延伸至所述P型GaN层(4)的顶面上;所述透明导电层(6)延伸至所述绝缘隔离层(5)外缘与所述P型GaN层(4)顶面外缘之间。 |
地址 |
423038 湖南省郴州市白露塘有色金属产业园区 |